FLOH
Diensten
Integraties
Cases
Producten
Gratis Tools
Over FLOH
Kennis
Gratis scan
octrooien
Terug naar Kennishub
Concept

Octrooien

Patenten die worden gebruikt om de technologische achterstand te meten

Nieuws· 1

Zeiss schat Chinese achterstand op EUV-chipmachines op vijftien jaar
Nieuws
4 min

3 sep 06:11

Zeiss schat Chinese achterstand op EUV-chipmachines op vijftien jaar

De halfgeleiderbaas van ASML-optiekleverancier Zeiss noemt vijftien jaar een redelijke aanname voor Chinese EUV-machines. UBS zet de Chinese lithografie op ASML-niveau van 2004, maar ziet DUV binnen twee tot vijf jaar op volume.

Verwante concepten

Technologische achterstand· 1
Exportbeperkingen· 1
EUV-lithografie· 1
Exportcontrole· 1
Geopolitieke risico's· 1
Exportregels· 1
Lithografie· 1

Past binnen deze thema's

AI-exportcontroles en soevereiniteit
AI-exportcontroles zetten Nederlandse digitale soevereiniteit onder druk
AI-gedreven zichtbaarheid en aansprakelijkheid: ondernemers in een nieuw speelveld
AI-hallucinaties: aansprakelijkheid en compliance
AI-soevereiniteit en de kwetsbaarheid van Europese bedrijven: lessen uit de exportcontroles
AI-soevereiniteit: Europa's antwoord op Amerikaanse dominantie en de gevolgen voor het midden- en kleinbedrijf
FLOH

Software, AI en integraties op maat. Van eerste idee tot werkend product.

Aanbod

  • Diensten
  • Integraties
  • Cases
  • Gratis Automatiseringsscan

Producten

  • Producten
  • Threadline
  • Conexus
  • Decky
  • Gratis Tools
  • Agent Skills

FLOH

  • Over FLOH
  • Kennis
  • Gidsen
  • Verhalen
  • Redactie
  • Veelgestelde vragen
  • Contact
•

© 2026 FLOH Solutions. Alle rechten voorbehouden. · Kvk-nr: 78007984

Terug naar Kennishub